ÇİN'DEN İKİ IŞIK HIZINDA YAPAY ZEKA
Çin, ABD ve müttefiklerinin uyguladığı teknoloji kısıtlamalarına karşı yapay zeka ve çip üretiminde eş zamanlı iki kritik hamle gerçekleştirdi. Işık hızında çalışan yeni yapay zeka çipi ve gizli yürütülen EUV projesindeki ilerleme, teknoloji savaşlarında yeni bir boyuta geçildiğini gösteriyor.
Çinli bilim insanları, batılı ülkelerin uyguladığı teknoloji ambargolarına karşı stratejik bir hamle yaparak elektronik sinyaller yerine ışık kullanan yeni bir çip mimarisi geliştirdi. Şanghay Jiao Tong Üniversitesi ile Tsinghua Üniversitesi araştırmacıları tarafından tasarlanan ve "LightGen" adı verilen bu optik hesaplama çipi, hakemli bilimsel dergi Science’ta yayımlanan makale ile dünyaya duyuruldu. Araştırma ekibi, geliştirdikleri bu teknolojinin özellikle görüntü ve video üretimi gibi yüksek işlem gücü gerektiren üretken yapay zeka görevlerinde, klasik elektronik çiplere kıyasla çok daha yüksek hız sunduğunu belirtti.
NVIDIA'DAN YÜZ KAT VERİMLİ
LightGen projesinde elde edilen teknik veriler, mevcut piyasa lideri donanımlarla kıyaslandığında dikkat çekici sonuçlar ortaya koyuyor. Çipin hesaplama kapasitesinin 3,57×10⁴ TOPS, enerji verimliliğinin ise 664 TOPS/watt olarak ölçüldüğü ve bu değerlerin Nvidia A100 gibi önde gelen elektronik yapay zeka çiplerinin performansını yüz katın üzerinde aştığı iddia edildi. Yaklaşık iki milyon fotonik nöronun 136,5 milimetrekarelik bir alana sığdırıldığı sistemin, yüksek çözünürlüklü görseller ve üç boyutlu sahneler oluşturabildiği aktarıldı.
YENİ BİR DONANIM ALTERNATİFİ
Projenin detaylarına ilişkin açıklamalarda bulunan araştırma ekibi lideri Prof. Chen Yitong, teknolojinin geleceğine dair önemli değerlendirmeler yaptı. Prof. Chen, LightGen’in ölçeklenebilir bir yapıya sahip olduğunu vurgulayarak, "Sürdürülebilir yapay zeka uygulamaları için yeni bir donanım alternatifi sunuyoruz" ifadelerini kullandı. Bilim insanları, geleneksel elektron akışı yerine lazer darbeleri kullanan bu fotonik mimarinin, yapay zeka uygulamalarının giderek artan devasa enerji ihtiyacına karşı temel bir çözüm haline gelebileceğini öngörüyor.
GİZLİ EUV PROJESİNDE EŞİK AŞILDI
Akademik alandaki bu ilerlemelerin yanı sıra, Çin'in yarı iletken üretiminin en zorlu aşaması olan EUV (aşırı morötesi) litografi teknolojisinde de kritik bir aşamayı geçtiği bildirildi. Reuters'ın aktardığı bilgilere göre, Shenzhen’de yüksek güvenlikli bir laboratuvarda yürütülen gizli program kapsamında 2025 başında tamamlanan bir prototip, çip üretiminde hayati önem taşıyan aşırı morötesi ışığı üretmeyi başardı. Bu teknoloji, insan saçından binlerce kat daha ince devrelerin silikon üzerine işlenmesini sağlayarak en gelişmiş çiplerin üretilmesine olanak tanıyor.
AMBARGOYA TEKNOLOJİK YANIT
ABD ve Avrupa ülkelerinin, Hollanda merkezli ASML şirketinin tekelinde olan EUV makinelerinin Çin'e satışını engellemesine rağmen Pekin yönetiminin kendi alternatifini geliştirmesi, küresel rekabette önemli bir dönüm noktası olarak değerlendiriliyor. Shenzhen’deki prototipin henüz ticari olarak çalışır bir çip üretmediği belirtilse de, EUV ışığının başarıyla üretilmesi teknik açıdan büyük bir engel olarak görülüyordu. Analistler, Çin'in doğrudan kopyalama yerine yeni mimariler ve üretim yöntemleri geliştirerek teknoloji yarışında beklenenden daha hızlı ilerlediğini vurguluyor.




